[发明专利]基板处理装置

摘要

本发明提供一种即使在利用共用管路对基板的下表面供给处理液和温水的情况下，也能够均匀地处理基板的基板处理装置。冷却机构具有包围共通配管(29)的管状构件(31)。管状构件(31)的上端被具有开口部(33)的盖构件(32)封闭，该开口部(33)用于向被旋转卡盘保持且进行旋转的半导体晶片(100)的下表面的旋转中心附近供给液体，且与共用管路(29)的端缘连接。另外，冷却水的供给配管(26)向该管状构件(31)的内部供给常温的纯水。向管状构件(31)内部供给的常温的纯水在对共用管路(29)冷却后从管状构件(31)的下端流出。

主权项

1.一种基板处理方法，用于基板处理装置，该基板处理装置具有：上表面处理液供给部，向被旋转卡盘保持且进行旋转的基板的上表面供给处理液，共用管路，用于向被所述旋转卡盘保持且进行旋转的基板的下表面的旋转中心附近供给液体，下表面处理液供给部，向所述共用管路供给处理液，温水供给部，向所述共用管路供给温水，冷却机构，该冷却机构向所述共用管路的外周部供给流体来冷却所述共用管路；其特征在于，在连续处理基板时，在向所述共用管路内供给温水后且在向所述共用管路供给处理液前，利用所述流体冷却所述共用管路。