[发明专利]基板加热装置和基板加热方法有效

专利信息
申请号: 201510114199.5 申请日: 2015-03-16
公开(公告)号: CN104681402B 公开(公告)日: 2018-03-16
发明(设计)人: 陆小勇;许晓伟;左岳平;田宏伟;张宇;龙春平 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L21/02
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司11403 代理人: 李莎,李弘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种基板加热装置和一种基板加热方法,上述装置包括加热层,用于传导热量;传输管,用于向扩散层传输气体;扩散层,设置在加热层之上,用于使气体均匀分布于导出层和加热层之间;导出层,设置在扩散层之上,其中均匀地设置有多个通孔,多个通孔用于将扩散层中的气体导出至待加热基板下方,以使待加热基板均匀受热。通过本发明的技术方案,可以均匀且全面地对待加热基板进行加热,使得待加热基板上表面温度更加均匀,以使对待加热基板进行的蚀刻、沉积和/或溅射等工艺得到更好的效果。
搜索关键词: 加热 装置 方法
【主权项】:
一种基板加热装置,其特征在于,包括:加热层,用于传导热量;传输管,用于向扩散层传输气体;所述扩散层,设置在所述加热层之上,用于使所述气体均匀分布于导出层和所述加热层之间;所述导出层,设置在所述扩散层之上,其中均匀地设置有多个通孔,所述多个通孔用于将所述扩散层中的气体导出至待加热基板下方,以使所述待加热基板均匀受热;每个所述通孔导出的气体的流量为5至20sccm;缓冲元件,设置于所述传输管的出口,用于降低从所述传输管进入所述扩散层的气体的速度。
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