[发明专利]光刻装置、光刻方法、光刻系统及物品制造方法

摘要

本发明提供光刻装置、光刻方法、光刻系统及物品制造方法，该光刻装置具有多个处理单元，所述多个处理单元中的各个被构造为对基板进行图案形成的处理。所述光刻装置还具有控制器，该控制器被构造为将所述多个处理单元分别根据所述图案形成的特性作为组进行管理，将一个或者更多个批次中包含的所述基板分配给所述组中的一个，并且如果在所述组中包含的处理单元处于待机状态时还存在分配给所述组的未处理的基板，则将所述未处理的基板分配给处于所述待机状态的处理单元并接着基于所述分配使所述处理单元对所述基板进行并行处理。

主权项

1.一种光刻装置，其包括：多个处理单元，所述多个处理单元中的各个被构造为对基板进行图案形成的处理；以及控制器，其被构造为将所述多个处理单元分别根据关于所述图案形成的特性作为组进行管理，将一个或者更多个批次中包含的所述基板分配给所述组中的一个，并且如果在所述组中包含的处理单元处于待机状态时还存在分配给所述组的未处理的基板，则将所述未处理的基板分配给处于所述待机状态的处理单元并接着基于所述分配使所述处理单元对所述基板进行并行处理，其中，在开始所述并行处理之前，所述控制器从所述光刻装置的外部接收包括所述特性的请求，基于所接收到的请求指定可用来进行处理的所述处理单元的数量，并将包括所述处理单元的数量的信息发送到外部。