[发明专利]曝光装置及其固定方法有效
| 申请号： | 201510122819.X | 申请日： | 2015-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN104977811B | 公开（公告）日： | 2018-06-12 |
| 发明（设计）人： | 桥本英幸;中谷猛 | 申请（专利权）人： | 优志旺电机株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 高迪 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种能够实现高曝光精度的曝光装置。曝光装置具备：排列元件，光学元件被排列成二维状；保持体，保持所述排列元件；投影光学系统，将通过了所述排列元件的光成像到所述感光材料上；被固定部，相对于所述投影光学系统的位置被固定，且所述保持体固定在该被固定部上；固定器具，将所述保持体固定到所述被固定部上；以及凹部，用于将所述保持体通过吸附保持到所述被固定部，且被设置在所述保持体和所述被固定部的至少一方。 | ||
| 搜索关键词： | 被固定部 保持体 排列元件 曝光装置 投影光学系统 感光材料 固定器具 光学元件 吸附保持 二维状 光成像 凹部 曝光 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，对各像素调制来自光源的光，在感光材料上成像，其特征在于，具备；排列元件，光学元件被排列成二维状；保持体，保持所述排列元件；投影光学系统，将通过了所述排列元件的光成像到所述感光材料上；被固定部，相对于所述投影光学系统的位置被固定，所述保持体固定在该被固定部上；固定器具，将所述保持体固定到所述被固定部上；以及凹部，用于在通过所述固定器具固定所述保持体时将所述保持体通过吸附保持到所述被固定部上，且被设置在所述保持体和所述被固定部的至少一方。
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