[发明专利]一种制备大尺寸高质量石墨烯单晶的装置及方法有效

专利信息
申请号: 201510128458.X 申请日: 2015-03-24
公开(公告)号: CN104695012B 公开(公告)日: 2017-03-22
发明(设计)人: 赵显;于法鹏;许士才;程秀凤;孙丽;杨志远;陈秀芳 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: C30B25/02 分类号: C30B25/02;C30B29/02
代理公司: 济南金迪知识产权代理有限公司37219 代理人: 杨磊
地址: 250199 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及一种制备大尺寸高质量石墨烯单晶的装置及方法。该装置包括壳体和顶盖,顶盖内设带布气管的气体喷头,使进入的高纯气体均匀分布进入反应腔体;反应腔体由密封石英管、插接在两段密封石英管中间的石墨发热体、放置在石墨发热体内部的石墨坩埚组成,石墨坩埚用于放置SiC晶片衬底;石墨发热体外有冷却水系统、中频线圈;壳体底部有出气口。本发明还提供利用该装置在SiC衬底上制备大尺寸高质量石墨烯单晶的方法。采用本装置及生长方法,在SiC衬底上制得高质量的石墨烯晶体,其迁移率比SiC高温热解方法制备的石墨烯提高近1~2个数量级。
搜索关键词: 一种 制备 尺寸 质量 石墨 烯单晶 装置 方法
【主权项】:
一种SiC衬底上制备石墨烯单晶的装置,该装置包括:‑壳体和顶盖,顶盖位于壳体上面,顶盖中部有进气口,与顶盖内设置的带布气管的气体喷头连通,使进入的高纯气体均匀分布进入反应腔体;‑反应腔体位于壳体中部,由密封石英管、插接在两段密封石英管中间的石墨发热体、放置在石墨发热体内部的石墨坩埚组成,石墨坩埚用于放置SiC晶片衬底;反应腔体通过固定在壳体内底部的支撑架支撑;‑冷却水系统,位于石墨发热体外,自下而上通冷却循环水;‑中频线圈,位于石墨发热体外,用于感应加热石墨发热体;‑在密封石英管下端设有气体导出通道,连通壳体底部的出气口。
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