[发明专利]计量图案布局及其使用方法有效
| 申请号： | 201510141230.4 | 申请日： | 2015-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN104950590B | 公开（公告）日： | 2017-09-01 |
| 发明（设计）人： | G·宁;G·于贝尔赖特;L·C·里特;P·阿克曼 | 申请（专利权）人： | 格罗方德半导体公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司11314 | 代理人： | 程伟,王锦阳 |
| 地址： | 英属开曼群*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及计量图案布局及其使用方法。该计量图案布局包括多个象限，在这些象限中可布置第一晶圆测量图案、第二晶圆测量图案、光罩对位图案以及光罩测量图案，从而有利于将光罩计量数据与晶圆计量数据关联。该光罩对位图案还可包括一个或多个最外结构元件，其经设计以在光学邻近校正过程中保护该光罩测量图案内的其它结构元件免受修改。本发明提供一种光学邻近校正过程的方法，其中，可获得光罩测量图案并对其分类，以添加或修改该光学邻近校正过程的规则组。 | ||
| 搜索关键词： | 计量 图案 布局 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
一种电路图案结构，包括：用于电路结构的计量图案布局，包括有利于布置多个计量图案的多个象限，包括：第一象限，用于第一晶圆测量图案；第二象限，用于第二晶圆测量图案；第三象限，用于光罩对位图案；以及第四象限，用于光罩测量图案；其中，该多个象限的布置有利于将自该第一及第二晶圆测量图案获得的数据与自该光罩测量图案及该光罩对位图案获得的数据关联。
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