[发明专利]一种基板及其制作方法、显示面板的制作方法在审
申请号: | 201510141489.9 | 申请日: | 2015-03-27 |
公开(公告)号: | CN104701144A | 公开(公告)日: | 2015-06-10 |
发明(设计)人: | 张治超;郭总杰;刘正;张小祥;陈曦;刘明悬 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;H01L21/02;G03F7/20 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及显示技术领域,公开了一种基板及其制作方法、显示面板的制作方法。所述基板的制作方法包括:利用已有的掩膜板进行图形化,来形成基板上的对位标记,满足了对位标记的微米级精度要求;利用扫描设备进行图形化,来形成基板上的遮光图形,满足了遮光图形的毫米级精度要求。由于不需要专门定制掩膜板,大大降低了所述基板(具体为掩膜板)的制作成本,进一步降低了利用所述基板进行图形化的显示基板的制作成本。而且对位标记图形和遮光图形通过单独的工艺形成,适用于不同尺寸尤其是大尺寸基板的制作,具有较高的通用性。 | ||
搜索关键词: | 一种 及其 制作方法 显示 面板 | ||
【主权项】:
一种基板的制作方法,包括形成对位标记和第一遮光图形的步骤,其特征在于,形成对位标记的步骤包括:提供一衬底基板和一掩膜板,所述掩膜板包括所述对位标记的图形;在所述衬底基板上形成第一不透光薄膜,所述第一不透光薄膜为非光敏材料;利用所述掩膜板对所述第一不透光薄膜进行图形化,将所述掩膜板上的对位标记图形复制到第一不透光薄膜上。形成第一遮光图形的步骤包括:在所述衬底基板上形成第二不透光薄膜,所述第二不透光薄膜为非光敏材料;利用扫描设备对所述第二不透光薄膜进行图形化,形成所述第一遮光图形。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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