[发明专利]一种基板及其制作方法、显示面板的制作方法在审

专利信息
申请号: 201510141489.9 申请日: 2015-03-27
公开(公告)号: CN104701144A 公开(公告)日: 2015-06-10
发明(设计)人: 张治超;郭总杰;刘正;张小祥;陈曦;刘明悬 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;H01L21/02;G03F7/20
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及显示技术领域,公开了一种基板及其制作方法、显示面板的制作方法。所述基板的制作方法包括:利用已有的掩膜板进行图形化,来形成基板上的对位标记,满足了对位标记的微米级精度要求;利用扫描设备进行图形化,来形成基板上的遮光图形,满足了遮光图形的毫米级精度要求。由于不需要专门定制掩膜板,大大降低了所述基板(具体为掩膜板)的制作成本,进一步降低了利用所述基板进行图形化的显示基板的制作成本。而且对位标记图形和遮光图形通过单独的工艺形成,适用于不同尺寸尤其是大尺寸基板的制作,具有较高的通用性。
搜索关键词: 一种 及其 制作方法 显示 面板
【主权项】:
一种基板的制作方法,包括形成对位标记和第一遮光图形的步骤,其特征在于,形成对位标记的步骤包括:提供一衬底基板和一掩膜板,所述掩膜板包括所述对位标记的图形;在所述衬底基板上形成第一不透光薄膜,所述第一不透光薄膜为非光敏材料;利用所述掩膜板对所述第一不透光薄膜进行图形化,将所述掩膜板上的对位标记图形复制到第一不透光薄膜上。形成第一遮光图形的步骤包括:在所述衬底基板上形成第二不透光薄膜,所述第二不透光薄膜为非光敏材料;利用扫描设备对所述第二不透光薄膜进行图形化,形成所述第一遮光图形。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司;,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510141489.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code