[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 201510175829.X 申请日: 2015-04-14
公开(公告)号: CN104900655A 公开(公告)日: 2015-09-09
发明(设计)人: 辛燕霞;杨玉清;杨小飞 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/02;H01L29/40;H01L21/28
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 柴亮;张天舒
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,属于阵列基板技术领域,其可解决现有的阵列基板中的存储电容的面积不足,电容值小的问题。本发明的阵列基板包括:薄膜晶体管,包括有源区、源漏极、栅极;设于所述有源区下方的由导电材料构成的遮光结构;存储电容,包括间隔且相对设置的第一极片和第二极片;所述第一极片与遮光结构同层设置,所述第二极片与有源区、源漏极、栅极中的任意一种同层设置。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,包括:薄膜晶体管,包括有源区、源漏极、栅极;设于所述有源区下方的由导电材料构成的遮光结构;存储电容,包括间隔且相对设置的第一极片和第二极片;其特征在于,所述第一极片与遮光结构同层设置,所述第二极片与有源区、源漏极、栅极中的任意一种同层设置。
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