[发明专利]具有来自侧壁的特征的处理室

摘要

本发明涉及具有来自侧壁的特征的处理室，具体提供了一种处理室，该处理室包括具有顶部和侧壁的室壳体。该处理室还具有密封件，该密封件用于将所述室壳体的侧壁连接到位于所述处理室下方的下室的顶部。衬底保持器联结到所述室壳体的侧壁。此外，该处理室具有晶片升降环，通过延伸穿过所述侧壁的侧臂支撑的晶片升降环具有至少三个支柱，每个支柱具有至少一个指状物，指状物的顶部限定第一晶片传运平面。下室具有至少一个最低晶片支撑件，至少一个最低晶片支撑件限定第二晶片传运平面，其中，第一晶片传运平面和第二晶片传运平面之间的高度不大于传送臂的最大竖直行程，传送臂被配置为从第一晶片传运平面和第二晶片传运平面传送晶片。

主权项

一种处理室，其包括：具有顶部和侧壁的室壳体；密封件，其用于将所述室壳体的所述侧壁连接到位于所述处理室下方的下室的顶部；衬底保持器，其联结到所述室壳体的所述侧壁；由延伸穿过所述室壳体的所述侧壁的侧臂支撑的晶片升降环，其中，所述晶片升降环具有竖直竖立的至少三个支柱，每个支柱具有从所述支柱水平地延伸的至少一个指状物，并且其中所述晶片升降环在上部位置的所述指状物的顶部限定第一晶片传运平面；以及定位在所述处理室下方的下室，所述下室具有至少一个晶片支撑件，其中最低的所述至少一个晶片支撑件的顶部限定了第二晶片传运平面，其中，所述第一晶片传运平面和所述第二晶片传运平面之间的高度不大于传送臂的最大竖直行程，所述传送臂被配置为从所述第一晶片传运平面和所述第二晶片传运平面传送晶片。