[发明专利]基板处理装置在审
| 申请号： | 201510186031.5 | 申请日： | 2015-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN105047582A | 公开（公告）日： | 2015-11-11 |
| 发明（设计）人： | 丸山浩二 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 彭里 |
| 地址： | 日本东京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够高精度地检测出作为残渣残留在研磨后的基板的被研磨面上的金属膜的基板处理装置。基板处理装置包括：研磨部(3)，对基板的被研磨面进行研磨并去除形成于被研磨面上的金属膜；清洗部(4)，对通过研磨部(3)研磨后的所述基板进行清洗干燥；临时放置台(180)，临时放置在基板通过所述研磨部(3)研磨后临时放置基板。在临时放置台(180)上，设有对基板的被研磨面上残留的金属膜进行检测的传感器(8、9)。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种基板处理装置，其特征在于，包括：研磨部，其对基板的被研磨面进行研磨并去除形成于所述被研磨面上的金属膜；清洗部，其对通过所述研磨部研磨后的所述基板进行清洗干燥；以及临时放置台，其在所述基板通过所述研磨部研磨后临时放置所述基板，在所述临时放置台上，设有对所述基板的被研磨面上残留的金属膜进行检测的传感器。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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