[发明专利]一种精确测试薄型高分子涂层厚度的方法在审

专利信息
申请号: 201510204701.1 申请日: 2015-04-27
公开(公告)号: CN104792291A 公开(公告)日: 2015-07-22
发明(设计)人: 温茂萍;谭凯元;王维欣;唐维;庞海燕;贺传兰;颜熹琳 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院化工材料研究所
主分类号: G01B21/08 分类号: G01B21/08
代理公司: 四川省成都市天策商标专利事务所 51213 代理人: 谭德兵
地址: 621000*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种精确测试薄型高分子涂层厚度的方法,首先以表面经过抛光处理的硅片作为载台材料,将其裁剪成合适的尺寸作为样品载台,然后在样品载台上采用待测高分子涂层相同的制备工艺,在样品载台上制备高分子涂层,然后再去除载台上的部分涂层,露出载台表面,用高精度轮廓仪扫描待测样品表面和样品载台表面的高度变化,获得高度扫描曲线,高度扫描曲线反应的高度差即为薄型高分子涂层的厚度。本发明的测试方法可以较准确地测试出厚度在100nm-10μm之间的薄型高分子涂层的厚度,测试方法简单。
搜索关键词: 一种 精确 测试 高分子 涂层 厚度 方法
【主权项】:
一种精确测试薄型高分子涂层厚度的方法,其特征在于它包括以下步骤:A、样品载台的制备选取表面经过抛光处理的硅片作为样品载台材料,然后将所述硅片裁剪为便于制备样品涂层和进行仪器测试的尺寸,即得样品载台;B、待测样品的制备按照与待测高分子涂层相同的制备工艺,在所述样品载台上制备高分子涂层,制备完毕后,将所述高分子涂层去除部分面积,样品载台上剩余的高分子涂层为待测样品;C、涂层表面与样品载台表面高度差的测量采用测试精度小于0.01nm的高精度轮廓仪扫描待测样品表面和样品载台表面的高度变化,记录高度扫描曲线;D、待测样品厚度的计算沿所述高度扫描曲线上的两条水平线作两条高度平行线,计算两条高度平行线之间的高度差△H,△H即为待测薄型高分子涂层样品的厚度。
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