[发明专利]分析装置和校正方法有效
| 申请号： | 201510257834.5 | 申请日： | 2015-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN105092425B | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | 水野裕介;青山朋树 | 申请（专利权）人： | 株式会社堀场制作所 |
| 主分类号： | G01N15/00 | 分类号： | G01N15/00;G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 周善来;李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供分析装置和校正方法，在分析装置中使用反映了实际测量状况的恰当的校正用数据进行校正。所述分析装置(100)包括照射部(51)、捕集过滤器(1)、校正用基体材料(BS，SS)、检测部(53)以及成分分析部(95)。照射部(51)照射通过激发颗粒状物质(P)而产生荧光X射线的激发X射线(X1)。捕集过滤器(1)捕集颗粒状物质(P)。校正用基体材料(BS，SS)在执行校正时与捕集过滤器一起(1)配置在测量区域(A)。检测部(53)能检测来自测量区域(A)的X射线(X2)。此外检测部(53)在执行校正时检测校正X射线。成分分析部(95)在执行校正时使用校正X射线生成校正用数据。此外成分分析部(95)在执行成分分析时，根据校正用数据和检测部(53)检测的X射线(X2)的测量值进行成分分析。 | ||
| 搜索关键词： | 分析 装置 校正 方法 | ||
【主权项】：
1.一种分析装置，其根据从颗粒状物质产生的荧光X射线进行所述颗粒状物质的成分分析，所述分析装置的特征在于，所述分析装置包括：照射部，照射激发X射线，所述激发X射线激发所述颗粒状物质使所述颗粒状物质产生荧光X射线；捕集过滤器，用于捕集所述颗粒状物质；校正用基体材料，具有基体材料以及层叠于所述基体材料的校正用试样，在执行校正时与所述捕集过滤器一起配置在所述激发X射线照射的测量区域；检测部，能检测来自所述测量区域的X射线，执行所述校正时检测通过向所述捕集过滤器和所述校正用基体材料照射所述激发X射线而产生的校正X射线；以及成分分析部，执行所述校正时通过向所述校正用试样照射所述激发X射线而产生的基准荧光X射线作为所述校正X射线，生成针对各测量对象元素的量程校正用数据，执行所述成分分析时根据所述量程校正用数据和所述检测部检测的X射线的测量值进行所述成分分析。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社堀场制作所，未经株式会社堀场制作所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510257834.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
