[发明专利]掩膜装置及掩膜系统在审
申请号: | 201510308594.7 | 申请日: | 2015-06-08 |
公开(公告)号: | CN104880907A | 公开(公告)日: | 2015-09-02 |
发明(设计)人: | 曾杰;李安石 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/50 | 分类号: | G03F1/50;G03F7/20 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明实施例公开一种掩膜装置及掩膜系统。掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于滚筒掩膜版内的光源组件。滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案,光源组件的外表上设置有光源。在光源的照射下,滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时,可在玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案。本发明在不需要制作大面积掩膜板的情况下,可在大面积的玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案,从而节省成本。 | ||
搜索关键词: | 装置 系统 | ||
【主权项】:
一种掩膜装置,其特征在于,所述掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于所述滚筒掩膜版内的光源组件,所述滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案,所述光源组件的外表上设置有光源,在所述光源的照射下,所述滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时,可在所述玻璃基板的感光材料上形成所述掩膜图案。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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