[发明专利]掩膜装置及掩膜系统在审

专利信息
申请号: 201510308594.7 申请日: 2015-06-08
公开(公告)号: CN104880907A 公开(公告)日: 2015-09-02
发明(设计)人: 曾杰;李安石 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G03F1/50 分类号: G03F1/50;G03F7/20
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明实施例公开一种掩膜装置及掩膜系统。掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于滚筒掩膜版内的光源组件。滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案,光源组件的外表上设置有光源。在光源的照射下,滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时,可在玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案。本发明在不需要制作大面积掩膜板的情况下,可在大面积的玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案,从而节省成本。
搜索关键词: 装置 系统
【主权项】:
一种掩膜装置,其特征在于,所述掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于所述滚筒掩膜版内的光源组件,所述滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案,所述光源组件的外表上设置有光源,在所述光源的照射下,所述滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时,可在所述玻璃基板的感光材料上形成所述掩膜图案。
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