[发明专利]离型膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201510324709.1 | 申请日： | 2015-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN105037773B | 公开（公告）日： | 2019-11-08 |
| 发明（设计）人： | 张国臻 | 申请（专利权）人： | 张家港康得新光电材料有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04;C09D183/07;C08G77/20;C08L67/02 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 赵囡囡;吴贵明 |
| 地址： | 215634 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种离型膜及其制备方法。该离型膜包括由下往上依次层叠设置的基材原膜、中间层和离型层，其中，中间层为包含环氧基和/或不饱和官能基的树脂涂层。本发明通过在基材原膜和离型层之间增加中间层，并利用中间层来改善本发明提供的离型膜的密着性和耐久性，并使离型膜具有光学外观良好、便于产线线上监控的特点，从而提高了产品的使用寿命，降低了产品的造价。 | ||
| 搜索关键词： | 离型膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种离型膜，其特征在于，所述离型膜包括由下往上依次层叠设置的基材原膜、中间层和离型层，其中，所述中间层为包含环氧基和不饱和官能基团的树脂涂层；并且所述中间层为由第一硅烷和第二硅烷在酸性环境下反应形成的树脂涂层，其中，所述第一硅烷为环氧基硅烷或环氧基氟硅烷，所述第二硅烷为不饱和官能基硅烷或不饱和官能基氟硅烷；其中：所述中间层的厚度为1～小于50纳米，并且所述离型层的厚度为1～30纳米。
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