[发明专利]用于对衬底上的结构进行曝光的方法和装置有效
| 申请号： | 201510325815.1 | 申请日： | 2015-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN105182691B | 公开（公告）日： | 2019-02-15 |
| 发明（设计）人： | R·策尔扎赫尔;P·伊尔西格勒 | 申请（专利权）人： | 英飞凌科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;董典红 |
| 地址： | 德国诺伊*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开涉及用于对衬底上的结构进行曝光的方法和装置。一种用于对衬底上的结构进行曝光的方法，包括将不变掩模版和可编程掩模版定位在光源和将被曝光于光的衬底上的层之间的光路中，以及通过使来自光源的光穿过不变掩模版和可编程掩模版来对衬底上的层进行曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 衬底 结构 进行 曝光 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于对衬底上的结构进行曝光的方法，所述方法包括：将不变掩模版和可编程掩模版定位在光源和所述衬底上的层之间的单一光路中，所述层将被曝光于光；以及通过使来自所述光源的光穿过所述不变掩模版和所述可编程掩模版二者，对所述衬底上的所述层进行曝光，其中所述可编程掩模版被编程为实现在不同时间对具有不同几何形状的结构的曝光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技股份有限公司，未经英飞凌科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510325815.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
