[发明专利]动态光散射测定装置和动态光散射测定方法在审
申请号: | 201510340652.4 | 申请日: | 2015-06-18 |
公开(公告)号: | CN105277490A | 公开(公告)日: | 2016-01-27 |
发明(设计)人: | 泉谷悠介;岩井俊昭 | 申请(专利权)人: | 大塚电子株式会社;国立大学法人东京农工大学 |
主分类号: | G01N21/25 | 分类号: | G01N21/25 |
代理公司: | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人: | 徐谦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种不易受到振动等外来干扰的影响、不需要进行参照光和试样光的光路差调整的动态光散射测定装置等。动态光散射测定装置(1)包含:照射部:其将来自低相干光源(10)的光照射到包含颗粒(42)的试样(40);光谱强度取得部,其使来自参照面的反射光和透射过参照面的来自试样(40)的散射光分光,取得反射光和散射光的干涉光的光谱强度,所述参照面配置于照射到试样(40)的光的光路上;以及测定部,其基于取得的光谱强度测定试样(40)的动态光散射。 | ||
搜索关键词: | 动态 散射 测定 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种动态光散射测定装置,包含:照射部,其将来自低相干光源的光照射到包含颗粒的试样;光谱强度取得部,其使来自参照面的反射光和透射过所述参照面的来自所述试样的散射光分光,取得所述反射光和所述散射光的干涉光的光谱强度,所述参照面配置于照射到所述试样的光的光路上;以及测定部,其基于取得的所述光谱强度来测定所述试样的动态光散射。
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