[发明专利]基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统

摘要

本发明提供一种能够在抑制对基板造成的影响的同时在常压气氛下将形成在基板的表面上的被处理膜的一部分去除的基板处理方法、基板处理装置以及基板处理系统。将会因在含氧气氛下照射紫外线而分解的被处理膜的原料涂敷在基板(W)上，对涂敷在基板(W)上的原料进行加热而形成被处理膜。接着，将形成有被处理膜的基板(W)配置在气体的流速为10cm/秒以下的含氧气氛的处理室(61)内并对该基板(W)照射紫外线而将被处理膜的一部分去除。

主权项

1.一种基板处理方法，其特征在于，该基板处理方法包括以下工序：在基板上涂敷被处理膜的原料，该被处理膜会因在含氧气氛下照射紫外线而分解；对涂敷在所述基板上的原料进行加热而形成被处理膜；以及将形成有所述被处理膜的基板配置在气体的流速为10cm/秒以下的含氧气氛的处理室内并对该基板照射紫外线而将所述被处理膜的表面去除。