[发明专利]光致抗蚀剂图案形成方法有效
| 申请号： | 201510353799.7 | 申请日： | 2015-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN105319837B | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 赵庸桓;全吉敏;朴汉雨 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人： | 石宝忠 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及光致抗蚀剂图案的形成方法。本发明涉及在具备制膜工序、曝光工序和显影工序的光致抗蚀剂图案形成方法中通过在显影工序后进一步进行追加曝光工序，从而不需要在显影后进行热处理工序的光致抗蚀剂图案的形成方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.负型光致抗蚀剂图案形成方法，是具备制膜工序、使用照射平行光线的光源的曝光工序和显影工序的光致抗蚀剂图案形成方法，其中，在显影工序后进一步进行使用与曝光工序中相同的光源的追加曝光工序。
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