[发明专利]用于去除光刻胶溶剂的装置在审
| 申请号： | 201510355609.5 | 申请日： | 2015-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN104880916A | 公开（公告）日： | 2015-09-02 |
| 发明（设计）人： | 吴利峰;李启明;黄聪;徐先华;方仲贤;熊燕军 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/38 | 分类号： | G03F7/38 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 吴大建;刘华联 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种用于去除光刻胶溶剂的装置，其包括能够容纳涂覆有光刻胶的待处理的玻璃板的微波谐振腔和位于所述微波谐振腔两侧的微波发射机构，其中，位于所述微波谐振腔中的玻璃板吸收来自所述微波发射机构的微波形式的能量，以烘烤去除所述玻璃板上的光刻胶溶剂。如此地，使得玻璃板不作为光刻胶膜及热盘之间的热传导介质而存在，同时使得光刻胶本身能有效吸收微波而发热。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 去除 光刻 胶溶 装置 | ||
【主权项】：
用于去除光刻胶溶剂的装置，其特征在于，包括能够容纳涂覆有光刻胶的待处理的玻璃板的微波谐振腔和位于所述微波谐振腔两侧的微波发射机构，其中，位于所述微波谐振腔中的玻璃板吸收来自所述微波发射机构的微波形式的能量，以烘烤去除所述玻璃板上的光刻胶溶剂。
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