[发明专利]附加浓度决定方法、立体形成方法及立体形成装置有效
申请号: | 201510367123.3 | 申请日: | 2015-06-29 |
公开(公告)号: | CN105269998B | 公开(公告)日: | 2018-06-26 |
发明(设计)人: | 山崎修一 | 申请(专利权)人: | 卡西欧计算机株式会社 |
主分类号: | B41M3/06 | 分类号: | B41M3/06;B41J2/01 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王成坤;胡建新 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种决定热吸收剂的附加浓度的附加浓度决定方法,上述热吸收剂的附加浓度是对于由于加热而发泡的介质的表面在对该介质加热前附加的上述热吸收剂的附加浓度,并且该热吸收剂的附加浓度针对与上述介质的表面对应的多个像素的每个像素而设定,在上述多个像素中的关注像素的原始的附加浓度满足第1规定条件时,将基于第1平均浓度和第2平均浓度决定的浓度设定为该关注像素的附加浓度,该第1平均浓度基于处于上述关注像素的周边的第1多个周边像素的原始的附加浓度,该第2平均浓度基于第2多个周边像素的原始的附加浓度。 | ||
搜索关键词: | 吸收剂 关注像素 像素 周边像素 规定条件 介质加热 形成装置 发泡 加热 | ||
【主权项】:
1.一种附加浓度决定方法,决定热吸收剂的附加浓度,上述附加浓度决定方法的特征在于,上述热吸收剂的附加浓度是在对由于加热而发泡的介质加热前对该介质的表面附加的上述热吸收剂的附加浓度,并且该热吸收剂的附加浓度针对与上述介质的表面对应的多个像素的每个像素而设定,在上述多个像素中的关注像素的原始的附加浓度满足第1规定条件时,将基于第1平均浓度和第2平均浓度决定的浓度设定为该关注像素的附加浓度,该第1平均浓度基于处于上述关注像素的周边的第1多个周边像素的原始的附加浓度,该第2平均浓度基于第2多个周边像素的原始的附加浓度。
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