[发明专利]玻璃加工方法、玻璃蚀刻液、及玻璃基板有效
申请号: | 201510398272.6 | 申请日: | 2015-07-08 |
公开(公告)号: | CN105293934B | 公开(公告)日: | 2019-11-29 |
发明(设计)人: | 森本茂彦;尾花彻也;栗山温;植松照博 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社;武蔵野精细玻璃株式会社 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
代理公司: | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 葛凡<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供玻璃加工方法、玻璃蚀刻液、及玻璃基板,所述玻璃加工方法可以按照在玻璃基板的端部,使朝向玻璃基板的面方向外侧突出的顶部的顶端不位于玻璃基板的面方向的最外侧的方式加工玻璃基板。本发明的玻璃加工方法包括:第一玻璃蚀刻工序,使用含有氢氟酸0.5~20质量%、硝酸5.0~25.0质量%、和氢氟酸及硝酸以外的无机酸0.5~10质量%的第一玻璃蚀刻液,对在一对主平面上具有相同图案的蚀刻掩模的玻璃基板进行蚀刻;和第二玻璃蚀刻工序,使用含有氢氟酸0.5~20质量%、和硫酸10.0~50.0质量%的第二玻璃蚀刻液,对在所述第一玻璃蚀刻工序中被蚀刻了的所述玻璃基板进行蚀刻。 | ||
搜索关键词: | 玻璃 加工 方法 蚀刻 | ||
【主权项】:
1.一种玻璃加工方法,包括:/n第一玻璃蚀刻工序,使用含有氢氟酸0.5质量%~20质量%、硝酸5.0质量%~25.0质量%、和氢氟酸及硝酸以外的无机酸0.5质量%~10质量%的第一玻璃蚀刻液,对在一对主平面上具有相同图案的蚀刻掩模的玻璃基板进行蚀刻;和/n第二玻璃蚀刻工序,使用含有氢氟酸0.5质量%~20质量%、和硫酸10.0质量%~50.0质量%的第二玻璃蚀刻液,对在所述第一玻璃蚀刻工序中被蚀刻了的所述玻璃基板进行蚀刻,/n其中,在所述第二玻璃蚀刻工序中被蚀刻了的所述玻璃基板是具有一对主表面、和与所述一对主表面大致垂直的端面的玻璃基板,/n所述端面具有从所述一对主表面朝向所述玻璃基板的面方向外侧隆起的一对隆起部、位于所述一对隆起部之间且朝向所述玻璃基板的面方向内侧凹陷的凹陷部、和位于所述凹陷部的中央且朝向所述玻璃基板的面方向外侧突出的顶部,/n所述一对隆起部的公共切线与所述顶部的顶端的距离为0mm以下,其中,在所述顶部的顶端与所述公共切线相比位于所述玻璃基板的面方向外侧时,将所述距离的符号设为正,在所述顶部的顶端与所述公共切线相比位于所述玻璃基板的面方向内侧时,将所述距离的符号设为负。/n
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