[发明专利]离子注入装置及离子注入装置的控制方法有效
| 申请号： | 201510401577.8 | 申请日： | 2015-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN105321791B | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 香川唯信;弓山敏男;黑濑猛 | 申请（专利权）人： | 住友重机械离子技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01L21/67 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 胡建新;朴勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种离子注入装置及离子注入装置的控制方法，提高施加于电极装置的电压的精度。本发明的离子注入装置具备：高电压电源(90)；控制装置(104)，生成控制高电压电源的输出电压(HVO)的指令信号；电极装置(80)，施加有输出电压；及测定装置(120),用于测量施加于电极装置的实际电压(HVR)。控制装置包括：第1生成部(110)，生成用于使高电压电源输出目标电压的第1指令信号；第2生成部(112)，生成第2指令信号，第2指令信号对第1指令信号进行补偿，以使由测定装置测量的实际电压成为目标电压或接近目标电压的电压；及指令部(114)，向高电压电源输出合成第1指令信号及第2指令信号而获得的合成指令信号。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 装置 控制 方法 | ||
【主权项】：
1.一种离子注入装置，其特征在于，具备：高电压电源；控制装置，生成控制所述高电压电源的输出电压的指令信号；电极装置，施加有所述输出电压；及测定装置，测量施加于所述电极装置的实际电压，所述控制装置包括：第1生成部，生成用于使所述高电压电源输出目标电压的第1指令信号；第2生成部，生成第2指令信号，该第2指令信号用于对所述第1指令信号进行补偿，以使由所述测定装置测量的实际电压成为所述目标电压或接近所述目标电压的电压；指令部，向所述高电压电源输出合成所述第1指令信号及所述第2指令信号而获得的合成指令信号；及管理部，根据在规定的更新期间内测量的所述实际电压与所述目标电压之差即目标补正电压，每经过所述更新期间将所述第2指令信号的输出值更新到所述第2生成部，所述管理部提供输出电压补正模式，该输出电压补正模式中，限制所述第2指令信号的更新，以使由所述第2指令信号的更新引起的所述输出电压的电压变动在第1阈值电压以内。
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