[发明专利]一种高温CVD设备

摘要

本发明涉及一种高温CVD设备，包括：设有内层侧壁与外层侧壁的双层侧壁，以及分别设置在所述双层侧壁两端的盖体，其特征在于，所述双层侧壁周向设有基准法兰，所述基准法兰沿所述双层侧壁轴向固定限位至少一端的所述盖体。所述盖体包括顶盖、上法兰和下法兰，且所述顶盖、上法兰、下法兰和基准法兰逐层压叠，所述上法兰和所述下法兰之间间隙可调整连接，或/和所述下法兰和所述基准法兰之间间隙可调整连接。上法兰、下法兰和基准法兰两两配合分别通过轴向的挤压使套在外层侧壁和内层侧壁外周的胶圈产生径向形变，从而将法兰和侧壁之间密封起来，同时通过严格控制三个法兰的厚度，以此控制因为负压情况下上、下顶盖对法兰的挤压位移较小或为零，从而侧壁端部受到的轴向应力得到了上限控制。

主权项

1.一种高温CVD设备，包括：设有内层侧壁与外层侧壁的双层侧壁，以及分别设置在所述双层侧壁两端的盖体，其特征在于，所述双层侧壁周向设有基准法兰，所述基准法兰沿所述双层侧壁轴向固定限位至少一端的盖体；所述盖体包括顶盖、上法兰和下法兰，且所述顶盖、上法兰、下法兰和基准法兰逐层压叠，所述上法兰和所述下法兰之间间隙可调整连接，或/和所述下法兰和所述基准法兰之间间隙可调整连接；所述上法兰设有第一胶圈槽，所述下法兰设有朝向所述上法兰的第一凸部，所述内层侧壁的端部以及其外周设有的胶圈共同设置在所述第一胶圈槽内，所述第一凸部沿所述双层侧壁轴向压入所述第一胶圈槽并挤压所述胶圈；所述基准法兰设有第二胶圈槽，所述下法兰设有朝向所述基准法兰的第二凸部，所述外层侧壁的端部以及其外周设有的胶圈共同设置在所述第二胶圈槽内，所述第二凸部沿双层侧壁轴向压入所述第二胶圈槽并挤压所述胶圈。