[发明专利]一种改善盲孔脱垫的HDI板制作工艺有效

专利信息
申请号: 201510434101.4 申请日: 2015-07-22
公开(公告)号: CN105101681B 公开(公告)日: 2018-03-06
发明(设计)人: 曾璇;苗国厚;刘克敢 申请(专利权)人: 深圳崇达多层线路板有限公司
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42
代理公司: 深圳市精英专利事务所44242 代理人: 冯筠
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于线路板加工领域,具体涉及一种改善盲孔脱垫的HDI板制作工艺。通过优化砂带打磨参数,实现了砂带打磨量可控,避免盲孔底部与电镀层临界面相结合,提高了点镀流程后砂带打磨效率;通过化学减铜减薄盲孔孔口铜厚,减小磨板时盲孔底部受到的拉应力,降低盲孔底部形成微裂纹导致脱垫的风险;实现砂带打磨量可控,在退膜前先用化学减铜方式减铜,可减小磨板时盲孔底部受到的拉应力,避免盲孔底部微裂纹的形成,同时可以降低盲孔微裂纹及脱垫的风险;改善了HDI板盲孔微裂纹、脱垫问题;成本低下,提高了成功率,减少了材料的耗损,符合节能环保的理念,具有极大的经济价值和市场前景。
搜索关键词: 一种 改善 盲孔脱垫 hdi 制作 工艺
【主权项】:
一种改善盲孔脱垫的HDI板制作工艺,其特征在于,所述工艺步骤如下:S1:按拼板尺寸开出芯板;S2:以6格曝光尺完成内层线路曝光,显影后蚀刻出线路图形;S3:检查内层的开短路缺陷并作出修正;S4:压合:进行棕化,棕化速度按照底铜铜厚棕化,然后根据板料Tg选用适当的层压条件进行压合,外层铜箔跟进客户要求成品表铜厚度选择铜箔;S5:根据板厚,利用钻孔资料进行内层激光钻孔加工;S6:进行内层沉铜,其中背光测试9.5级;S7:进行内层板电镀,控制在6‑8um范围;S8:以6格曝光尺完成外层线路曝光,并进行显影,完成内层镀孔图形;S9:以合适的电流参数与电镀时间,对盲孔进行填平处理,完成填孔电镀;S10:镀孔:对显影出来的孔进一步镀铜,孔铜单点与表铜最小点满足要求;S11:树脂塞孔:退膜后进行树脂填充通孔,测试孔铜合格后方可树脂塞孔;S12:第一次砂带磨板:以优化后的参数正反面打磨两次,节省打磨时间,剩余总铜厚满足客户要求,保证树脂打磨干净,同时需确保打磨后剩余板电层厚≥2μm;S13:以6格曝光尺完成内层线路曝光,显影后蚀刻出线路图形S14:检查内层的开短路缺陷并作出修正S15:棕化速度按照底铜铜厚棕化,根据板料Tg选用适当的层压条件进行压合,外层铜箔跟进客户要求成品表铜厚度选择铜箔;S16:外层钻孔:激光钻孔,根据板厚,利用钻孔资料进行钻孔加工;S17:外层沉铜:其中,背光测试9.5级;S18:全板电镀:孔铜控制在7‑12um范围;S19:外层镀孔图形:以6格曝光尺完成外层线路曝光,并进行显影;S20:填孔电镀:以合适的电流参数与电镀时间,对盲孔进行填平处理;S21:化学减铜操作,镀孔口铜柱高度<20μm后退膜;S22:以优化后的参数正反面打磨两次,完成砂带打磨操作,节省打磨时间,保证打磨后剩余板电层厚≥2μm;S23:以6格曝光尺完成外层线路曝光,并进行显影,完成外层图形操作;S24:对孔、表铜要求进行电镀,完成图形电镀操作;S25:碱性蚀刻,蚀刻速度按底铜进行蚀刻,控制蚀刻线宽,完成外层蚀刻;S26:对HDI板盲孔网络进行低阻值四线测试,以判断盲孔是否存在微裂纹、空洞缺陷;S27:检查外层的开短路缺陷并作出修正;S28:将阻焊油墨均匀的涂覆在已经前处理合格的PCB板上,使用小野曝光机曝光,阻焊菲林涨缩控制在+/‑0.01mm,完成丝印阻焊;S29:采用白网印刷字符和图像;S30:控制金、镍层厚度,进行沉镍金操作。
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