[发明专利]掩膜有效
| 申请号： | 201510441986.0 | 申请日： | 2015-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN105039905B | 公开（公告）日： | 2017-11-24 |
| 发明（设计）人： | 陈瑞祥 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人： | 梁挥,鲍俊萍 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种掩膜，包括沿一预定方向接续排列的多个图案化结构以及环绕图案化结构设置的周边区。各图案化结构包含开口部以及环绕开口部设置的薄化部。开口部具有阵列排列的多个贯穿开口。薄化部的外边界具有大致平行于预定方向且互相对应的一侧边及另一侧边。薄化部的外边界与开口部的边界之间所围设的区域面积以定义出薄化部。薄化部的厚度小于周边区的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜 | ||
【主权项】：
一种掩膜，其特征在于，包括：多个图案化结构，沿一预定方向接续排列，其中各该图案化结构包含：一开口部，具有阵列排列的多个贯穿开口；以及一薄化部，环绕该开口部设置，该薄化部的外边界具有大致平行于该预定方向且互相对应的位于该开口部两侧的一侧边及另一侧边，且该薄化部的外边界与该开口部的边界之间所围设的区域面积以定义出该薄化部，该开口部的边界围成非矩形；以及一周边区，该周边区环绕该些图案化结构设置，且该薄化部的厚度小于该周边区的厚度。
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