[发明专利]一种阵列基板及其制作方法

摘要

本发明提供一种阵列基板及其制作方法，所述方法包括：在衬底基板上制作开关阵列层；在所述开关阵列层上形成色阻层，所述色阻层包括红色彩膜、绿色彩膜、蓝色彩膜，所述色阻层上形成有过孔；在色阻层上形成透明导电层；以及在所述透明导电层上形成遮光层。本发明的阵列基板及其制作方法，通过在制作透明导电层之后制作黑色矩阵，防止同时在黑色矩阵和色阻层上制作过孔时，容易造成孔的尺寸偏差，避免透明导电层发生破裂。

主权项

1.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上制作开关阵列层，所述开关阵列层包括第一金属层、有源层、第二金属层；其中对所述第一金属层进行图形化处理形成多个栅极，对所述第二金属层进行图形化处理形成多个源极和多个漏极，所述有源层用于形成沟道；在所述开关阵列层上形成色阻层，所述色阻层包括红色彩膜、绿色彩膜、蓝色彩膜，所述色阻层上形成有过孔；在所述色阻层上形成透明导电层；以及在所述透明导电层上形成遮光层；在所述遮光层上形成第一绝缘层，所述第一绝缘层防止高温制程中导致的所述遮光层或所述色阻层内材料挥发、气泡产生，其中所述第一绝缘层的厚度小于等于0.1微米。