[发明专利]阵列基板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201510473674.8 申请日: 2015-08-05
公开(公告)号: CN105140238A 公开(公告)日: 2015-12-09
发明(设计)人: 王聪;杜鹏 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 何青瓦
地址: 518006 广东省深圳市光明新区公*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种阵列基板及其制作方法。方法包括:在玻璃基板上生长多晶硅层;对多晶硅层两侧进行重掺杂并进行活化处理,形成重掺杂区;在重掺杂区上生长第一金属层,形成源/漏极;在多晶硅层上依次生长栅绝缘层和第二金属层,形成栅极,其中第二金属层材料为金属铝。通过以上方式,本发明改进活化工艺流程,能够减小产品金属线的RC延迟,实现产品的大尺寸化。
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法
【主权项】:
一种阵列基板的制作方法,其特征在于,所述方法包括:在玻璃基板上生长多晶硅层;对多晶硅层两侧进行重掺杂并进行活化处理,形成重掺杂区;在所述重掺杂区上生长第一金属层,形成源/漏极;在所述多晶硅层上依次生长栅绝缘层和第二金属层,形成栅极,其中所述第二金属层材料为金属铝。
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