[发明专利]光刻生产控制方法

摘要

本发明公开了一种光刻生产控制方法，包括步骤1创建涂胶显影作业，涂胶显影作业包括涂胶、曝光和显影；步骤2执行涂胶作业；步骤3检测判断涂胶作业是否遇到光刻胶不足，若遇到光刻胶不足，则报警提示更换光刻胶，进入步骤4，若光刻胶充足，则直接进入步骤5；步骤4换胶前缓存当前批次晶圆的涂胶显影作业进度，并寻找涂胶显影作业条件与当前批次不一致的晶圆，进行涂胶显影作业；换胶后载入换胶前缓存的涂胶显影作业进度，返回步骤3；步骤5将曝光条件与涂胶显影作业对应；步骤6执行曝光作业和后续显影作业。本发明可以使光刻机能够连续不中断地工作，从而提高光刻机整体的产能。

主权项

一种光刻生产控制方法，其特征在于，包括：步骤1：创建涂胶显影作业，涂胶显影作业包括：涂胶、曝光和显影；步骤2：执行涂胶作业；步骤3：检测判断涂胶作业是否遇到光刻胶不足，若遇到光刻胶不足，则报警提示更换光刻胶，进入步骤4，若光刻胶充足，则直接进入步骤5；步骤4：换胶前：缓存当前批次晶圆的涂胶显影作业进度，并寻找涂胶显影作业条件与当前批次不一致的晶圆，进行涂胶显影作业；换胶前的步骤包括：步骤411：停止当前批次晶圆的载入，缓存该批次晶圆的涂胶显影作业进度；步骤412：将当前批次中已完成涂胶作业的晶圆进行曝光，缓存当前批次未完成的曝光作业进度；步骤413：寻找涂胶显影作业条件与当前批次不一致的晶圆，并对寻找到的晶圆执行涂胶显影作业；换胶后：载入换胶前缓存的涂胶显影作业进度，返回步骤3；步骤5：将曝光条件与涂胶显影作业对应；步骤6：执行曝光作业和后续显影作业。