[发明专利]一种曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 201510494605.5 | 申请日： | 2015-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN104991427B | 公开（公告）日： | 2017-12-08 |
| 发明（设计）人： | 彭川 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻技术领域，公开一种曝光装置及曝光方法，曝光装置包括机架和掩膜版，还包括安装于机架、以用于承装基板的基板载台，基板载台由可形变的材料制备、以使基板载台具有设定的变形量；间距测量模块，用于测量基板与掩膜版之间曝光间距、且根据测量的曝光间距以及预先设定的间距值计算出曝光间距补偿量；动作时驱动基板载台变形的驱动模块，驱动模块与间距测量模块信号相连、且根据曝光间距补偿量驱动基板载台变形、以将基板与掩模板之间的曝光间距调整至设定范围内。在上述曝光装置中，驱动模块动作时，调整基板与掩膜版之间的距离，以调整曝光间距，因此，上述曝光装置能够进行曝光补偿，使曝光间距都接近设定值，提高曝光质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，包括机架和掩膜版，其特征在于，还包括：安装于所述机架、以用于承装基板的基板载台，所述基板载台由可形变的材料制备、以使所述基板载台具有设定的变形量；间距测量模块，用于测量所述基板与所述掩膜版之间曝光间距、且根据测量的曝光间距以及预先设定的间距值计算出曝光间距补偿量；用于驱动所述基板载台变形的驱动模块，所述驱动模块与所述间距测量模块信号相连、且根据所述曝光间距补偿量驱动所述基板载台变形、以调整所述基板与所述掩膜版之间的曝光间距。
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