[发明专利]镀膜装置

摘要

一种镀膜装置，用以在基材上进行镀膜，镀膜装置包含镀膜腔室、载台以及至少一磁场产生件。载台设置于镀膜腔室内且具有顶面，顶面用以盛放基材。磁场产生件设置于载台内或载台下方。通过让磁场产生件产生磁场分布于载台附近，当镀膜腔室中的原子或分子沉积至基材上时，分布于载台附近的磁场会与即将沉积于基材上的原子或分子交互作用，于是即将沉积至基材上的原子或分子将能获得额外的动能，因而使薄膜成长的速度增加。

主权项

1.一种镀膜装置，其特征在于，用以在一基材上进行镀膜，该镀膜装置包含：一镀膜腔室；一载台，设置于该镀膜腔室内，且具有一顶面，该顶面用以盛放该基材；以及多个磁场产生件，设置于该载台内或该载台下方，至少部分的所述磁场产生件的N极朝向该顶面，且至少部分的所述磁场产生件的S极朝向该顶面，所述磁场产生件的N极及所述磁场产生件的S极是以矩型阵列排列的圆形或以蜂巢方式排列的圆形。