[发明专利]一种显示装置、触控面板及其制作方法有效
| 申请号： | 201510516320.7 | 申请日： | 2015-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN105159489B | 公开（公告）日： | 2018-01-30 |
| 发明（设计）人： | 操彬彬 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人： | 赵天月 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示装置、触控面板及其制作方法。该触控面板的制作方法，包括步骤S1在基板上通过一次构图工艺形成图案化的金属引线和金属架桥；步骤S2沉积绝缘层和透明电极层，通过一次构图工艺形成绝缘层的图形以及用于触控的第一电极和第二电极的图形。本发明提供一种显示装置、触控面板及其制作方法，该方法通过一次构图工艺即可同时形成绝缘层、第一电极和第二电极的图形，最大程度地提高触控面板工艺生产的效率，节约生产成本，提升了产线竞争力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 显示装置 面板 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种触控面板的制作方法，其特征在于，包括：步骤S1：在基板上通过一次构图工艺形成图案化的金属引线和金属架桥；步骤S2：沉积绝缘层和透明电极层，通过一次构图工艺形成绝缘层的图形以及用于触控的第一电极和第二电极的图形，其中，步骤S2具体包括：在绝缘层上涂覆光刻胶，通过半透明掩膜版进行曝光显影，其中，对应绝缘层过孔处为光刻胶完全曝光区域，对应触控的第一电极和第二电极处为光刻胶半曝光区域，所述光刻胶完全曝光区域和所述光刻胶半曝光区域以外的区域为光刻胶完全保留区域；干法刻蚀绝缘层，形成绝缘层过孔，并对光刻胶进行灰化，去除所述光刻胶半曝光区域的光刻胶；沉积透明电极，对剩余光刻胶进行离地剥离，有光刻胶的区域透明电极全部被去除，而无光刻胶的区域透明电极全部被保留，进而形成用于触控的第一电极和第二电极。
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