[发明专利]曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法有效
申请号: | 201510541459.7 | 申请日: | 2010-08-24 |
公开(公告)号: | CN105182693B | 公开(公告)日: | 2018-10-12 |
发明(设计)人: | 柴崎祐一 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 马景辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明是根据在载台(WST1)上搭载的四个读头(601~604)中、包含互异的一个读头的三个读头所属的第1读头群与第2读头群中所含的读头面对标尺板上对应区域的区域(A0)内,使用第1读头群所得的位置信息驱动载台(WST1),并使用以第1及第2读头群所得的位置信息求出对应的第1及第2基准坐标系(C1、C2)间的偏差(位置、旋转、定标的偏差)。使用该结果修正使用第2读头群所得的测量结果,据以修正第1及第2基准坐标系(C1、C2)间的偏差、以及四个读头(601~604)的分别面对的标尺板上的区域彼此间的偏差伴随的测量误差。 | ||
搜索关键词: | 曝光 方法 装置 以及 元件 制造 | ||
【主权项】:
1.一种透过投影光学系统以照明光使物体曝光的曝光装置,其包括:机架构件,其支承该投影光学系统;基座,配置于该投影光学系统的下方;载台,具有保持该物体的保持装置,且配置于该基座上;驱动系统,具有在该基座与该载台中的一方设有磁石单元、在该基座与该载台中的另一方设有线圈单元的平面马达,在该基座上移动该载台;测量板,具有分别形成反射型二维绕射光栅的四个部分,该四个部分以与该投影光学系统的光轴正交的既定面实质平行且配置于该光轴周围的方式,被悬吊支承于该机架构件;编码器系统,具有设于该载台的四个读头,透过该四个读头将光束分别自下方照射该测量板以测量该载台的位置信息;以及控制系统,根据该编码器系统所测量的位置信息控制该驱动系统;该控制系统,根据在曝光动作中该载台移动的曝光时移动区域中,在该四个读头分别与该测量板的该四个部分相对的该载台的移动区域内藉由该编码器系统所测量的位置信息,取得用来补偿藉由该四个读头之中的三个读头所规定的第1座标系、与藉由该四个读头之中的和该三个读头不同的一个读头及该三个读头之中的两个读头的三个读头所规定的第2座标系的位置误差的修正信息;该修正信息用于该驱动系统的控制。
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