[发明专利]曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法

摘要

本发明是根据在载台(WST1)上搭载的四个读头(601～604)中、包含互异的一个读头的三个读头所属的第1读头群与第2读头群中所含的读头面对标尺板上对应区域的区域(A0)内，使用第1读头群所得的位置信息驱动载台(WST1)，并使用以第1及第2读头群所得的位置信息求出对应的第1及第2基准坐标系(C1、C2)间的偏差(位置、旋转、定标的偏差)。使用该结果修正使用第2读头群所得的测量结果，据以修正第1及第2基准坐标系(C1、C2)间的偏差、以及四个读头(601～604)的分别面对的标尺板上的区域彼此间的偏差伴随的测量误差。

主权项

一种透过投影光学系统以照明光使基板曝光的曝光装置，其包括：机体，具有支承该投影光学系统的主机架；检测系统，从该投影光学系统分离且被支承于该主机架，检测该基板的位置信息；基座，配置于该投影光学系统与该检测系统的下方；载台，具有保持该基板的保持装置，且配置于该基座上；驱动系统，具有一部分设于该载台的马达，在该基座上移动该载台，以使该基板分别与该投影光学系统与该检测系统相对配置；第1测量板，具有分别形成反射型光栅的四个第1区域，以使该四个第1区域与既定面平行且被配置于该投影光学系统的下端侧的方式被支承于该主机架；第2测量板，具有分别形成反射型光栅的四个第2区域，以使该四个第2区域与该既定面平行且被配置于该检测系统的下端侧的方式被支承于该主机架；编码器系统，具有设于该载台的四个读头，透过该四个读头将光束分别自下方照射该第1测量板或该第2测量板以测量该载台的位置信息；以及控制系统，根据该编码器系统所测量的位置信息控制该驱动系统；该编码器系统，于该基板的曝光步骤中测量配置于该第1测量板下方的该载台的位置信息，并且在藉由该检测系统对该基板的检测步骤中测量配置于该第2测量板下方的该载台的位置信息；在该曝光步骤中该载台的移动区域，包含藉由从该四个读头逐一去除彼此不同的读头的四组三个读头分别测量该位置信息的四个座标系；藉由在该移动区域内的该载台的移动，代替该四个座标系的一个座标系，测量在该四个座标系之中与该一个座标系不同的座标系中的该载台的位置信息；该控制系统，使用在该四个读头分别与该四个第1区域相对的该载台的移动区域的一部分藉由该编码器系统所测量的位置信息，取得用来补偿因该四个第1区域的偏移所产生的该一个座标系与该不同的座标系的位置误差的修正信息；该修正信息，用于代替在该一个座标系所使用的三个读头对该载台的驱动控制，而以该不同的座标系所使用的三个读头对该载台进行驱动控制。