[发明专利]一种刻蚀装置及导电层的刻蚀方法、阵列基板的制备方法

摘要

本发明提供一种刻蚀装置、导电层的刻蚀方法及阵列基板制备的方法，属于显示技术领域，其可解决现有技术在阵列基板的刻蚀工艺中制作精度低、刻蚀液种类多、处理成本高的问题。本发明的刻蚀装置及阵列基板制备的方法，通过控制单元控制极化回路进行刻蚀，并根据所述测量回路获得的监控参数对刻蚀进行调整，形成待刻蚀导电层图形，从而能制备出更加精细的阵列基板的器件的图案，有利于实现高像素化显示、提高显示品质；同时，相对于采用光刻胶刻蚀法，刻蚀装置采用同一种刻蚀液可以适用于多种种类的待刻蚀导电层；而且形成的刻蚀液的组成成分简单、方便刻蚀工艺完成后对刻蚀液的处理或回收。

主权项

一种刻蚀装置，其特征在于，包括：用于与待刻蚀导电层形成极化回路的第一电极；与所述第一电极形成测量回路的第二电极；及与所述第一电极、第二电极和待刻蚀导电层接触的刻蚀液；及用于对刻蚀过程进行控制的控制单元。