[发明专利]一种具有高发光效率的QLED器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510554478.3 申请日: 2015-09-01
公开(公告)号: CN105140412A 公开(公告)日: 2015-12-09
发明(设计)人: 肖标;付东;谢相伟;闫晓林 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所 44268 代理人: 王永文;刘文求
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种具有高发光效率的QLED器件及其制备方法,其包括步骤:沉积一复合空穴注入层于ITO基板上;其中,所述复合空穴注入层由金属纳米颗粒分散于空穴注入层中搅拌均匀而制成;沉积一空穴传输层于复合空穴注入层上;沉积一量子点发光层于空穴传输层上;依次沉积一电子传输层和一电子注入层于量子点发光层上,最后蒸镀一阴极于电子注入层上,制得QLED器件。本发明将金属纳米颗粒表面等离子体增强效应应用于QLED器件中,通过向空穴注入层中掺入少量的金属纳米颗粒作为复合空穴注入层用于QLED器件中,从而有效促进了QLED器件中载流子的输运和辐射复合,实现了QLED器件发光效率的有效提高。
搜索关键词: 一种 具有 发光 效率 qled 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
一种具有高发光效率的QLED器件的制备方法,其特征在于,包括步骤:A、沉积一复合空穴注入层于ITO基板上;其中,所述复合空穴注入层由金属纳米颗粒分散于空穴注入层中搅拌均匀而制成;B、沉积一空穴传输层于复合空穴注入层上;C、沉积一量子点发光层于空穴传输层上;D、依次沉积一电子传输层和一电子注入层于量子点发光层上,最后蒸镀一阴极于电子注入层上,制得QLED器件。
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