[发明专利]一种坩埚、真空蒸镀装置及系统有效
| 申请号： | 201510564844.3 | 申请日： | 2015-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN105177506A | 公开（公告）日： | 2015-12-23 |
| 发明（设计）人： | 张永峰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李相雨 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种坩埚、真空蒸镀装置及系统。该坩埚包括坩埚主体、喷嘴及容纳槽；所述坩埚主体用于容纳蒸发材料，所述喷嘴设置于所述坩埚主体的开口部；所述容纳槽开设在所述喷嘴的外围，用于收纳从所述喷嘴溢出的蒸发材料，从而防止溢出的蒸发材料(尤其针对铝材料)跌落至加热源内部，避免加热部件发生短路损坏；同时通过容纳槽还可便于检查蒸发材料的溢出状况。而且，本发明坩埚还采用“底大口小”的设计结构，提高蒸发材料的受热面积及蒸发速率。此外，在坩埚内还设置有挡板结构，能够延缓熔融蒸发材料沿坩埚壁爬升的速度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 坩埚 真空 装置 系统 | ||
【主权项】：
一种坩埚，其特征在于，包括：坩埚主体、喷嘴及容纳槽；所述坩埚主体用于容纳蒸发材料，所述喷嘴设置于所述坩埚主体的开口部；所述容纳槽开设在所述喷嘴的外围，用于收纳从所述喷嘴溢出的蒸发材料。
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