[发明专利]化学增幅型正型抗蚀剂干膜、干膜层合体和制备层合体的方法有效
| 申请号： | 201510564914.5 | 申请日： | 2015-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN105404096B | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 平野祯典;浅井聪;柳泽秀好 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/09;G03F7/16 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 杜丽利 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 待在支持膜上形成的化学增幅型正型抗蚀剂干膜包含5‑40重量％的在大气压下具有55℃至250℃的沸点的组分。可以通过简单的步骤制备具有柔性和尺寸稳定性的抗蚀剂干膜。可以将所述抗蚀剂干膜有效地和简易地置于制品上并加工，以形成图案。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 增幅 型正型抗蚀剂干膜 干膜层 合体 制备 方法 | ||
【主权项】：
待在支持膜上形成的化学增幅型正型抗蚀剂干膜，其包含5重量％至40重量％的在大气压下具有55℃至250℃的沸点的组分。
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