[发明专利]曝光装置、曝光方法及设备制造方法

摘要

本发明公开了一种曝光装置、曝光方法及设备制造方法。所述曝光装置包括：投影光学系统；调整单元，配置成调整所述投影光学系统的成像特性；以及控制器，配置成基于在每个照射区区域的图案中的移动的数据和曝光顺序，将多个照射区区域划分为组，为每个组确定成像特性的设定量，并控制调整单元针对每个组将成像特性设置为所述设定量。所述设定量是组中的多个照射区区域共用的，在组间是不同的。所述控制器执行划分，以使得属于同一组的照射区区域具有连续的曝光顺序，且属于同一组的照射区区域中的所有移动的值落在预定范围内。

主权项

1.一种用于以预定的顺序对基板上的多个照射区区域中的每个照射区区域执行曝光的曝光装置，所述曝光装置包括：投影光学系统，配置成将原版的图案投影到所述多个照射区区域中的每个照射区区域上；调整单元，配置成调整所述投影光学系统的成像特性；以及控制器，配置成基于在所述多个照射区区域中的每个照射区区域中的移动的数据和曝光顺序，将所述多个照射区区域划分为组，为每个划分的组确定成像特性的设定量，控制所述调整单元针对组将成像特性设置为所确定的设定量，并执行对组中的多个照射区区域的每一个执行曝光，其中，确定的组的设定量是组中的多个照射区区域共用的，在划分的组间是不同的，以及其中，所述控制器执行划分，以使得属于同一组的照射区区域具有连续的曝光顺序，且属于同一组的照射区区域中的所有移动的值落在预定范围内。