[发明专利]荧光X射线分析装置以及其测定位置调整方法

摘要

本发明涉及荧光X射线分析装置以及其测定位置调整方法。在荧光X射线分析装置以及其测定位置调整方法中，防止引导的光映入到决定样品的测定位置时的观察视野内。具备：样品台（2），能够设置样品S；样品移动机构（3），能够移动样品台；X射线源（4），对样品照射一次X射线X1；检测器（5），检测从被照射一次X射线的样品产生的荧光X射线X2；拍摄部（6），对包括样品台上的样品的一定的视野区域进行拍摄；显示器部，显示由拍摄部拍摄的视野区域；以及指示器照射部（8），向未映入到在显示器部中显示的视觉辨认区域的范围即样品台上的视野区域的附近照射可见光L。

主权项

一种荧光X射线分析装置，其特征在于，具备：样品台，能设置样品；X射线源，对所述样品照射一次X射线；检测器，检测从被照射所述一次X射线的所述样品产生的荧光X射线；拍摄部，对所述样品台的一定的视野区域进行拍摄；显示器部，显示由所述拍摄部拍摄的所述视野区域；以及指示器照射部，向未映入到在所述显示器部中显示的所述视觉辨认区域的范围即所述样品台的所述视野区域的附近照射可见光。