[发明专利]薄膜晶体管阵列基板、其制造方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 201510585342.9 申请日: 2015-09-15
公开(公告)号: CN105428366B 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 金广海;金容周;李旻炯 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/283;H01L29/66
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了薄膜晶体管阵列基板、其制造方法和显示装置。所述薄膜晶体管(TFT)阵列基板包括至少一个TFT,所述至少一个TFT包括:半导体层,包括在基板上且具有第一掺杂浓度的源极区和漏极区、在源极区和漏极区之间且具有第二掺杂浓度的沟道区以及从源极区和漏极区延伸的非掺杂区,第二掺杂浓度低于第一掺杂浓度;栅极绝缘层,在半导体层上;栅电极,在栅极绝缘层上并且与沟道区至少部分叠置;源电极和漏电极,与栅电极绝缘并且分别电连接到源极区和漏极区。
搜索关键词: 薄膜晶体管 阵列 制造 方法 显示装置
【主权项】:
一种薄膜晶体管阵列基板,所述薄膜晶体管阵列基板包括至少一个薄膜晶体管,所述至少一个薄膜晶体管包括:半导体层,包括在基板上且具有第一掺杂浓度的源极区和漏极区、在所述源极区和所述漏极区之间且具有第二掺杂浓度的沟道区以及从所述源极区和所述漏极区延伸的非掺杂区,所述第二掺杂浓度低于所述第一掺杂浓度;栅极绝缘层,在所述半导体层上;栅电极,在所述栅极绝缘层上并且与所述沟道区至少部分叠置;以及源电极和漏电极,与所述栅电极绝缘并且分别电连接到所述源极区和所述漏极区。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510585342.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top