[发明专利]薄膜晶体管阵列基板、其制造方法和显示装置有效
申请号: | 201510585342.9 | 申请日: | 2015-09-15 |
公开(公告)号: | CN105428366B | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
发明(设计)人: | 金广海;金容周;李旻炯 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/283;H01L29/66 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了薄膜晶体管阵列基板、其制造方法和显示装置。所述薄膜晶体管(TFT)阵列基板包括至少一个TFT,所述至少一个TFT包括:半导体层,包括在基板上且具有第一掺杂浓度的源极区和漏极区、在源极区和漏极区之间且具有第二掺杂浓度的沟道区以及从源极区和漏极区延伸的非掺杂区,第二掺杂浓度低于第一掺杂浓度;栅极绝缘层,在半导体层上;栅电极,在栅极绝缘层上并且与沟道区至少部分叠置;源电极和漏电极,与栅电极绝缘并且分别电连接到源极区和漏极区。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 阵列 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】:
一种薄膜晶体管阵列基板,所述薄膜晶体管阵列基板包括至少一个薄膜晶体管,所述至少一个薄膜晶体管包括:半导体层,包括在基板上且具有第一掺杂浓度的源极区和漏极区、在所述源极区和所述漏极区之间且具有第二掺杂浓度的沟道区以及从所述源极区和所述漏极区延伸的非掺杂区,所述第二掺杂浓度低于所述第一掺杂浓度;栅极绝缘层,在所述半导体层上;栅电极,在所述栅极绝缘层上并且与所述沟道区至少部分叠置;以及源电极和漏电极,与所述栅电极绝缘并且分别电连接到所述源极区和所述漏极区。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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