[发明专利]用于光传感器的光电组件及其制作方法有效
申请号: | 201510620836.6 | 申请日: | 2015-09-25 |
公开(公告)号: | CN106558635B | 公开(公告)日: | 2018-01-30 |
发明(设计)人: | 吴瑞钦;孙国升 | 申请(专利权)人: | 凌巨科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0224 |
代理公司: | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司44217 | 代理人: | 郭伟刚 |
地址: | 中国台湾苗栗*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明为一种用于光传感器之光电组件及其制作方法,其包含第一金属层(11)、半导体层(13)、阻隔区(131)以及透明导电层(15),该阻隔区(131)透过氧化方式反应形成于该半导体层(13)的侧壁,该光电组件(10)在用于光传感器时可通过该阻隔区(131)防止该半导体层(13)的侧壁有漏电流。 | ||
搜索关键词: | 用于 传感器 光电 组件 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种用于光传感器的光电组件的制作方法,其特征在于,包含步骤:提供一第一金属层(11);设置一半导体层(13)于所述第一金属层(11)上,所述半导体层(13)包括二极管;设置一透明导电层(15)于所述半导体层(13)上;氧化所述半导体层(13)的侧壁,反应形成一阻隔区(131)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于凌巨科技股份有限公司,未经凌巨科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510620836.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的