[发明专利]一种TEM样品的定位方法在审
申请号: | 201510623479.9 | 申请日: | 2015-09-27 |
公开(公告)号: | CN105352768A | 公开(公告)日: | 2016-02-24 |
发明(设计)人: | 陈强;高林;史燕萍 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种TEM样品的定位方法,包括:步骤1:提供具有重复单元结构的产品,并确定该产品上的失效单元的位置;步骤2:在产品表面制作与所述失效单元对应的定位标记和警示标记;步骤3:在所述失效单元上方沉积第一金属保护层,所述第一金属保护层部分覆盖所述定位标记和警示标记;步骤4:在所述第一金属保护层上沉积第二金属保护层;步骤5:根据所述定位标记和警示标记切割产品制备TEM样品。本发明可以对具有重复单元结构的产品进行精确定位,实现TEM样品的制作。 | ||
搜索关键词: | 一种 tem 样品 定位 方法 | ||
【主权项】:
一种TEM样品的定位方法,其特征在于,包括:步骤1:提供具有重复单元结构的产品,并确定该产品上的失效单元的位置;步骤2:在产品表面制作与所述失效单元对应的定位标记和警示标记;步骤3:在所述失效单元上方沉积第一金属保护层,所述第一金属保护层部分覆盖所述定位标记和警示标记;步骤4:在所述第一金属保护层上沉积第二金属保护层;步骤5:根据所述定位标记和警示标记切割产品制备TEM样品。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510623479.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。