[发明专利]改良的蓝图工程机碳粉和缺陷蓝图工程机碳粉的改良方法在审
申请号: | 201510625861.3 | 申请日: | 2015-09-28 |
公开(公告)号: | CN105093869A | 公开(公告)日: | 2015-11-25 |
发明(设计)人: | 于普海;吴校荣;曾国威 | 申请(专利权)人: | 珠海思美亚碳粉有限公司 |
主分类号: | G03G9/08 | 分类号: | G03G9/08 |
代理公司: | 珠海智专专利商标代理有限公司 44262 | 代理人: | 林永协 |
地址: | 519170 广东省珠*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及改良蓝图工程机碳粉和缺陷蓝图工程机碳粉的改良方法。本发明提供的改良的蓝图工程机碳粉,按重量份包括:100份缺陷蓝图工程机碳粉,缺陷蓝图工程机碳粉是用于蓝图工程机的兼容碳粉,改良的蓝图工程机碳粉还包括0.1份至1.5份的小粒径二氧化硅,小粒径二氧化硅的粒径大于5纳米且小于10纳米,小粒径二氧化硅带负电且带电量为400微库仑每克至800微库仑每克,小粒径二氧化硅经聚二甲基硅氧烷或六甲基二硅氮烷表面改性处理。缺陷蓝图工程机碳粉的改良方法主要包括加入步骤、混合步骤和过筛步骤。采取本发明的技术方案时,现有的缺陷蓝图工程机碳粉供粉时间长的问题得到改善。 | ||
搜索关键词: | 改良 蓝图 工程 碳粉 缺陷 方法 | ||
【主权项】:
改良的蓝图工程机碳粉,按重量份,包括:100份缺陷蓝图工程机碳粉,所述缺陷蓝图工程机碳粉是用于蓝图工程机的兼容碳粉,其特征在于:所述改良的蓝图工程机碳粉还包括0.1份至1.5份的小粒径二氧化硅,所述小粒径二氧化硅的粒径大于5纳米且小于10纳米,所述小粒径二氧化硅带负电且带电量为400 微库仑每克至800微库仑每克,所述小粒径二氧化硅经聚二甲基硅氧烷或六甲基二硅氮烷表面改性处理。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于珠海思美亚碳粉有限公司,未经珠海思美亚碳粉有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510625861.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:图像形成装置
- 下一篇:一种无掩膜光刻直写系统的照明均匀性测试方法