[发明专利]MEMS面内位移测量方法在审

专利信息
申请号: 201510644305.0 申请日: 2015-10-08
公开(公告)号: CN105203033A 公开(公告)日: 2015-12-30
发明(设计)人: 罗元;赖翔;张毅;李述洲;王兴龙 申请(专利权)人: 重庆平伟实业股份有限公司
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02;B81B7/02
代理公司: 重庆市前沿专利事务所(普通合伙) 50211 代理人: 郭云
地址: 405200 重庆*** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 发明公开了一种基于图像的MEMS面内位移测量方法,该方法包括以下步骤:S1,获取两幅图像;S2,在样本图像中选取样本子区f(x,y),在目标图像中选取目标子区g(x,y);S3,为提高处理的精度,对两幅子区图像进行分形插值处理;S4,将样本子区图像进行傅立叶变换;S5,将步骤S4中变换后的图像进行滤波,得到涡旋图像;S6,计算涡旋点偏心率参数和相位参数;S7,寻找最佳匹配,获得位移值。本发明解决了传统数字散斑中采用光学方法获取散斑图像需要激光光源同时对微小物体的散斑布放存在困难的问题,也解决了在进行相关运算计算量大,算法耗时较长,测量分辨率满足不了MEMS面内位移亚像素级测量要求的缺陷,能够提高测量精度和效率。
搜索关键词: mems 位移 测量方法
【主权项】:
一种MEMS面内位移测量方法,其特征在于,包括以下步骤:S1,获取两幅MEMS图像:一幅图像为零相位时刻的MEMS微结构图像作为样本图像,另一幅图像为不是零相位时刻的MEMS微结构运动图像作为目标图像;S2,在样本图像中选取样本子区f(x,y),在目标图像中选取目标子区g(x,y);S3,对两幅子区图像进行分形插值处理;S4,将分形处理后的子区图像进行傅立叶变换;S5,将步骤S4中变换后的图像进行滤波,得到样本子区涡旋图像和目标子区涡旋图像;S6,计算涡旋点偏心率参数和相位参数,为涡旋图像重新赋值;S7,寻找最佳匹配,获得位移值。
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