[发明专利]量子点彩膜的制备方法在审
申请号: | 201510646777.X | 申请日: | 2015-10-08 |
公开(公告)号: | CN105242442A | 公开(公告)日: | 2016-01-13 |
发明(设计)人: | 梁宇恒 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种量子点彩膜的制备方法。本发明的量子点彩膜的制备方法,利用透明有机光阻材料通过光刻工艺形成量子点彩膜的蓝色子像素部分后,对透明有机光阻层进行疏水处理,借助疏水特性依次将绿色量子点固化胶、及红色量子点光刻胶涂布于相应的区域上,依次得到绿色量子点固化胶层、及其上的红色量子点光刻胶层,再通过光刻工艺将部分红色量子点光刻胶层进行蚀刻,即可得到量子点彩膜的绿色子像素部分、及红色子像素部分,相对于传统的量子点彩膜的制作方法至少减少了一次光刻工艺,大大简化了制程、降低了成本,提高了生产效率,且只需要开发一种量子点光刻胶,降低了开发的难度和成本。 | ||
搜索关键词: | 量子 点彩膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
种量子点彩膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供基板(1),所述基板(1)包括数个蓝色子像素区域、绿色子像素区域、及红色子像素区域;在所述基板(1)上涂布一层透明有机光阻材料,形成透明有机光阻层(2);步骤2、通过光刻工艺对所述透明有机光阻层(2)进行图案化处理,去掉透明有机光阻层(2)上对应所述蓝色子像素区域以外的部分,得到图案化的透明有机光阻层(2’),所述图案化的透明有机光阻层(2’)作为量子点彩膜的蓝色子像素部分;步骤3、对所述图案化的透明有机光阻层(2’)的上表面做疏水处理;步骤4、在所述基板(1)上涂布一层绿色量子点固化胶,所述绿色量子点固化胶不附着在图案化的透明有机光阻层(2’)上、而填充于图案化的透明有机光阻层(2’)与所述基板(1)形成的凹槽内,经固化后,得到绿色量子点固化胶层(3),所述绿色量子点固化胶层(3)对应于所述绿色子像素区域、及红色子像素区域;步骤5、在所述基板(1)上涂布一层红色量子点光刻胶,所述红色量子点光刻胶不附着在图案化的透明有机光阻层(2’)上、而填充于图案化的透明有机光阻层(2’)与所述绿色量子点固化胶层(3)形成的凹槽内,得到红色量子点光刻胶层(4),所述红色量子点光刻胶层(4)对应于所述绿色子像素区域、及红色子像素区域;步骤6、通过光刻工艺对所述红色量子点光刻胶层(4)进行图案化处理,去掉红色量子点光刻胶层(4)上对应绿色子像素区域的部分,露出其下方的绿色量子点固化胶层(3),得到图案化的红色量子点光刻胶层(4’);其中,所述绿色量子点固化胶层(3)上对应于所述绿色子像素区域的部分作为量子点彩膜的绿色子像素部分,所述绿色量子点固化胶层(3)上对应于所述红色子像素区域的部分及其上方图案化的红色量子点光刻胶层(4’)作为量子点彩膜的红色子像素部分。
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