[发明专利]量子点偏光片的制作方法有效

专利信息
申请号: 201510658524.4 申请日: 2015-10-12
公开(公告)号: CN105204106B 公开(公告)日: 2018-11-20
发明(设计)人: 程小平;李泳锐 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/1335
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种量子点偏光片的制作方法。本发明的量子点偏光片的制作方法,将量子点层、偏光层分别形成于不同的基材上而分别得到量子点膜片、偏光膜片,然后将量子点膜片、偏光膜片相贴合后得到量子点偏光片,量子点偏光片并非在同一基材上依次成膜得到,从而使得量子点偏光片中的量子点层通过高低温制程均可制备,扩大了量子点材料的选择和制备范围,由该方法得到的量子点偏光片,在增加显示面板色域覆盖率的同时,不会发生光偏振消除的现象。
搜索关键词: 量子 偏光 制作方法
【主权项】:
1.一种量子点偏光片的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供第一基材(11),在所述第一基材(11)上制备量子点层(12)、第一保护层(13)、及第一黏着层(14),得到量子点膜片(1);步骤2、提供第二基材(21),在所述第二基材(21)上制备偏光层(22)、第二保护层(23)、第二黏着层(24)、及剥离保护膜(25),得到偏光膜片(2);步骤3、通过第一黏着层(14)将所述量子点膜片(1)与所述偏光膜片(2)进行贴合,得到量子点偏光片;所述步骤1中,通过蒸镀法在所述第一基材(11)上形成量子点薄膜,得到量子点层(12)。
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