[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201510662021.4 申请日: 2015-10-14
公开(公告)号: CN105590922B 公开(公告)日: 2019-07-19
发明(设计)人: 狩野太一;齐藤俊;山路将晴;佐佐木修 申请(专利权)人: 富士电机株式会社
主分类号: H01L23/60 分类号: H01L23/60;H01L29/06
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 王颖;金光军
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 半导体装置包括:第一导电型第一主电极区;与第一主电极区接触的第一导电型漂移区;与漂移区接触的第一导电型第二主电极区;第二导电型阱区,设置在漂移区的表层部的一部分,并且基准电位施加到所述第二导电型阱区;以及第一导电性电位提取区,设置在阱区的表层部,并且基准电位施加到第一导电型电位提取区,其中,阱区用作对在电位提取区与漂移区之间流动的电流进行控制的基极区。因此,能够提供一种新型半导体装置,其能够抑制芯片尺寸的增大的同时具有高可靠性。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
1.一种半导体装置,所述半导体装置包括:第一导电型第一主电极区;第一导电型漂移区,与所述第一主电极区接触;第一导电型第二主电极区,与所述漂移区接触;第二导电型阱区,设置在所述漂移区的表层部的一部分,并且基准电位施加到所述第二导电型阱区;和第一导电型电位提取区,设置在所述阱区的表层部,并且基准电位施加到所述第一导电型电位提取区,其中,所述阱区用作对在所述电位提取区与所述漂移区之间流动的电流进行控制的基极区,所述阱区被设置为从所述漂移区延伸至所述第二主电极区上,并且比所述漂移区和所述第二主电极区浅。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士电机株式会社,未经富士电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510662021.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top