[发明专利]用于在洁净空间中垂直定位基片处理设备的方法和装置

摘要

本发明涉及用于在洁净空间中垂直定位基片处理设备的方法和装置。本发明提供了用于制造设备的支持物的各个方面，所述制造设备能够相对于彼此在至少垂直维度上常规布置和替换处理设备。

主权项

1.一种用于生产基片的方法，包括：接纳工厂，其包括主洁净空间，其中，将多个处理设备固定在矩阵中，所述处理设备包括各自的设备主体和设备端口，所述矩阵包括所述处理设备中的相对于彼此以垂直维度定位的至少两个处理设备，其中，所述至少两个处理设备被固定在所述主洁净空间的周界处，并且所述至少两个处理设备的所述设备端口在所述主洁净空间中，而所述至少两个处理设备的所述设备主体的至少一部分不在所述主洁净空间中；依靠第一底座将第一处理设备固定在所述工厂中；依靠所述第一底座将所述第一处理设备移动到第一操作位置；依靠第二底座将第二处理设备固定在所述工厂中；依靠所述第二底座将所述第二处理设备移动到第二操作位置；将至少一个基片存储在运载装置中，同时所述运载装置在所述处理设备之间传送；将所述运载装置接纳到所述第一处理设备的所述设备端口中；将所述基片从所述运载装置移动到所述第一处理设备；在所述第一处理设备中，在所述基片上实施第一处理；以及在所述第二处理设备中，在所述基片上实施第二处理。