[发明专利]曝光装置及曝光方法有效

专利信息
申请号: 201510673307.2 申请日: 2015-10-16
公开(公告)号: CN105739246B 公开(公告)日: 2018-11-09
发明(设计)人: 山田章夫;菅谷慎二;黑川正树;濑山雅裕 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明组合光曝光技术及带电粒子束曝光技术而形成复杂且微细的图案。本发明提供一种曝光装置及曝光方法,该曝光装置对与试样上的线图对应的位置照射带电粒子束,且具备:射束产生部,在线图的宽度方向上产生照射位置不同的多个带电粒子束;扫描控制部,使多个带电粒子束的照射位置沿着线图的长度方向扫描;选择部,在线图上的长度方向的被指定的照射位置选择多个带电粒子束中的至少一个带电粒子束,使其应照射至所述试样;以及照射控制部,控制将所选择的至少一个带电粒子束照射至试样。
搜索关键词: 曝光 装置 方法
【主权项】:
1.一种曝光装置,所述曝光装置将带电粒子束照射在与基于网格预先形成在试样上的具有不同线宽和不同间距的多个线图中的线图对应的位置处,所述曝光装置具备:射束产生部,在所述线图的宽度方向上产生照射位置不同的多个带电粒子束,其中所述照射位置被配置为与所述网格相对应;扫描控制部,使所述多个带电粒子束的照射位置沿着所述线图的长度方向扫描;选择部,在所述线图上的长度方向的被指定的照射位置选择所述多个带电粒子束中的至少一个带电粒子束,使其应照射至所述试样;以及照射控制部,控制将所选择的所述至少一个带电粒子束照射至所述试样。
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