[发明专利]集成电路和设计集成电路的布局的方法有效
申请号: | 201510689951.9 | 申请日: | 2015-10-22 |
公开(公告)号: | CN105608243B | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
发明(设计)人: | 金珍泰;金昌汎 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;尹淑梅 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 提供了一种集成电路和设计集成电路的布局的方法。所述方法包括:准备存储第一标准单元和第二标准单元的标准单元库,第一标准单元和第二标准单元中的每个包括沿第一方向延伸的多条导线,将第一标准单元和第二标准单元放置成沿平行于所述多条导线的第一边界彼此邻近,当同一电压被施加到在第一标准单元中邻近第一边界的第一图案和在第二标准单元中邻近第一边界的第二图案时,通过使用所述多条导线中的至少一条第一导线产生去耦电容器,所述至少一条第一导线邻近第一边界。 | ||
搜索关键词: | 集成电路 设计 布局 方法 | ||
【主权项】:
1.一种设计电子处理器中的集成电路的布局的方法,所述方法包括:接收将集成电路限定为第一标准单元和第二标准单元的输入数据;利用处理器通过访问存储器得到存储第一标准单元和第二标准单元的标准单元库,第一标准单元和第二标准单元中的每个包括沿第一方向延伸的多条导线;利用处理器将第一标准单元和第二标准单元放置成在平行于所述多条导线的第一边界彼此邻近;以及当同一电压将被施加到在第一标准单元中邻近第一边界的第一图案和在第二标准单元中邻近第一边界的第二图案时,利用处理器通过使用所述多条导线中的至少一条第一导线产生去耦电容器,所述至少一条第一导线邻近第一边界。
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